一种用于光阻机的晶背清洁机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于光阻机的晶背清洁机构，属于光阻机中清洁圆晶片技术领域，该清洁机构包括外壳体，在外壳体内装配有吹气管，所述的外壳体表面装配有喷吹管，喷吹管与外壳体内的吹气管连通；所述的喷吹管包括竖直段和倾斜段，倾斜段与所述的竖直段连通，且竖直段与所述的吹气管连通。喷吹管的倾斜设置提高了圆晶片的清理效果，且喷吹管的喷吹方向根据需要进行调节，方便人们使用；本实用新型中的喷吹管的喷吹速度由于调节机构的设置便于调节，进一步提高了圆晶片的清理效果，另外，本实用新型中吹气管在外壳体内方便拆卸安装，使用方便，实用性强。
基本信息
专利标题 ：
一种用于光阻机的晶背清洁机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022328139.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-19
授权号 ：
CN213958909U
授权日 ：
2021-08-13
发明人 ：
冯嘉荔
申请人 ：
广州市鸿浩光电半导体有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市增城区新塘镇荔新十二路96号9幢103房
代理机构 ：
广州正驰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
洪安鹏
优先权 ：
CN202022328139.2
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 B08B5/02 G03F7/20
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-08-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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