一种晶闸管生产用退火炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种晶闸管生产用退火炉，包括柜体，柜体内设有多层上下间隔布置的放置架，各层放置架上设有用于放置晶闸管的托盘，各层放置架的顶部设有支撑托盘底部的滚子，柜体的顶部分别设有第一排气管、第二排气管，第二排气管的一端连接有抽气泵，第一排气管上设有第一控制阀、第二排气管上设有第二控制阀，柜体的底部分别设有第一进气管、第二进气管，第一进气管的一端连接有风机，第二进气管的一端连接有保护气罐，第一进气管上设有第三控制阀，第二进气管上设有第四控制阀，柜体的两侧内壁分别设有加热管。本实用新型通过输入保护气体可以有效减少晶闸管在退火过程氧化，通过风机输入空气可以提高降温速度，提高效率。
基本信息
专利标题 ：
一种晶闸管生产用退火炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022336093.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-19
授权号 ：
CN213242501U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
宋解放
申请人 ：
襄阳先泰电子有限公司
申请人地址 ：
湖北省襄阳市樊城区松鹤西路72号
代理机构 ：
广州海心联合专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
马赟斋
优先权 ：
CN202022336093.9
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L29/74
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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