一种高效率翻转清理式光学薄膜镀膜机
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摘要

本实用新型涉及镀膜机技术领域,且公开了一种高效率翻转清理式光学薄膜镀膜机,包括底座,底座为矩形台,底座的上端左右两侧均竖直向上固定安装有支撑杆,支撑杆为矩形杆,两组支撑杆的上端中间位置平行固定安装有横杆,横杆为矩形长杆,横杆的下端纵向平行固定安装有滑轨,滑轨的下端开设有滑槽,滑槽是横截面为T形的槽,滑槽的内部滑动连接有移动块,移动块的下端竖直向下固定安装有加工臂。本实用新型中,挤压辊在旋转过程中通过驱动锥齿带动被动锥齿旋转,被动锥齿旋转时带动圆形扫把旋转对镀膜位置的前方两侧进行清扫,从而使得在镀膜的过程中能实施对需要镀膜位置的前方两侧进行实时清理,防止杂质遗留在镀膜层的表面,影响镀膜质量。

基本信息
专利标题 :
一种高效率翻转清理式光学薄膜镀膜机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022392503.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-23
授权号 :
CN213652630U
授权日 :
2021-07-09
发明人 :
黄宇山孙正
申请人 :
惠州市正飞通讯技术有限公司
申请人地址 :
广东省惠州市仲恺高新区东江高新科技产业园兴运东路1号长方工业园3栋厂房一楼A区区域
代理机构 :
北京天奇智新知识产权代理有限公司
代理人 :
范雅茜
优先权 :
CN202022392503.1
主分类号 :
C23C14/50
IPC分类号 :
C23C14/50  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-07-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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