一种制备Topcon电池钝化膜层的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种制备Topcon电池钝化膜层的装置，包括载入腔、预热腔、真空传输腔、镀膜模组和载出腔，所述载入腔与预热腔相连接，所述预热腔设置于真空传输腔的一侧，沿着所述真空传输腔的周围设有多个镀膜模组，多个所述镀膜模组采用团簇式排列，所述载出腔与真空传输腔相连接，所述真空传输腔内设有机械手，所述镀膜模组包含外真空腔体、镀膜腔。本实用新型的有益效果是：团簇式多层堆叠镀膜腔，可提升产能、减少占地面积、降低成本、减少镀膜均匀性变差；板式ALD与PECVD或板式PEALD与PECVD结合的镀膜方式，实现在线掺杂，提高镀膜速率，提高产能，满足Topcon电池不同钝化膜层的性能质量需求。
基本信息
专利标题 ：
一种制备Topcon电池钝化膜层的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022400377.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-26
授权号 ：
CN213357746U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
盛远
申请人 ：
盛远
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区新桥镇新立名园7栋丙单元1102
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022400377.X
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/50 C23C16/455 C23C16/40 C23C16/24 C23C16/56 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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