一种n型钝化接触电池及其制备方法

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摘要

本发明公开一种n型钝化接触电池制备方法，在制备正面发射极之后在硅片正面制备一层二氧化硅层作为正面钝化层、抛光步骤掩膜层和去除绕镀的掺磷多晶硅步骤的掩膜层；使用碱性溶液对硅片背面进行边沿隔离和抛光，在硅片背面形成光滑的抛光面；使用背面氮化硅作为金属化的缓冲阻挡层、背面减反射层和去除绕镀的掺磷多晶硅步骤中的掩膜层。进一步，本发明还公开一种采用上述方法制备的n型钝化接触电池。本发明在保证电池良好性能的同时，简化了n型钝化接触电池的制备流程，降低制备成本，且可行性高。

基本信息

专利标题：

一种n型钝化接触电池及其制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111640823A

申请号：

CN202010528561.4

公开（公告）日：

2020-09-08

申请日：

2020-06-11

授权号：

CN111640823B

授权日：

2022-05-17

发明人：

黄海冰沈梦超张胜军张梦葛绪欣吴智涵

申请人：

常州时创能源股份有限公司

申请人地址：

江苏省常州市溧阳市溧城镇吴潭渡路8号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN202010528561.4

主分类号：

H01L31/18

IPC分类号：

H01L31/18 H01L31/0216