一种防止PECVD镀膜边缘发红的石墨框装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种防止PECVD镀膜边缘发红的石墨框装置，包括石墨框，石墨框内设有边缘边框和中间边框，所述的中间边框呈纵横交错式分布，中间边框与边缘边框之间相交形成若干个载片单元，所述的载片单元用于承载硅片，载片单元的排数为E，列数为F，所述的E和F均为大于等于2的整数，所有的载片单元的四周均设有下沉槽，边缘边框的外侧设有一圈凹槽，所述的凹槽位于石墨框内侧，凹槽距边缘载片单元的间距为2～4mm，凹槽的深度大于2mm，凹槽的深度小于石墨框的厚度，凹槽的左右两侧设有定位孔。本实用新型可有效增加载板边缘位置等离子体的碰撞几率，有效解决边缘发红现象，不仅可用于有勾点的石墨框还可用于无勾点的石墨框。
基本信息
专利标题 ：
一种防止PECVD镀膜边缘发红的石墨框装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022487454.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-11-02
授权号 ：
CN214004779U
授权日 ：
2021-08-20
发明人 ：
贾佳刘海涛杜敬良王丽婷黄惜惜黄国平
申请人 ：
中节能太阳能科技（镇江）有限公司
申请人地址 ：
江苏省镇江市新区北山路9号
代理机构 ：
镇江基德专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
邓月芳
优先权 ：
CN202022487454.X
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/34 C23C16/511 H01L21/673 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-08-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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