抗反射电极
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种电光组件，所述电光组件可包括：第一部分反射部分透射的衬底，其具有第一表面和第二表面；第二部分反射部分透射的衬底，其具有第三表面和第四表面；密封构件，所述密封构件围绕所述第一衬底和所述第二衬底的周边设置，所述密封构件以间隔开的关系保持所述第一衬底和所述第二衬底；腔室，所述腔室由所述第一衬底和所述第二衬底以及所述密封构件限定；电光介质，所述电光介质设置在所述腔室内；以及抗反射涂层，所述抗反射涂层设置在所述第一衬底的所述第二表面与所述第二衬底的相对的所述第三表面之间，所述抗反射涂层可包括至少第一层、第二层和第三层，所述第二层可设置在所述第一层与所述第三层之间。
基本信息
专利标题 ：
抗反射电极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341722A
申请号 ：
CN202080062232.3
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·F·森格纳福尔G·A·纽曼J·S·安德森
申请人 ：
金泰克斯公司
申请人地址 ：
美国密歇根州
代理机构 ：
北京北翔知识产权代理有限公司
代理人 ：
李星宇
优先权 ：
CN202080062232.3
主分类号 ：
G02F1/153
IPC分类号 ：
G02F1/153 G02B1/116
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/153
•••结构上的布置细节
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/153
申请日 : 20200911
申请日 : 20200911
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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