金刚石基底的微米和纳米结构化
公开
摘要
本发明涉及一种结构化金刚石基底(2)的方法，包括以下步骤:(a)在金刚石基底(2)的一面上沉积粘附层(14)；(b)在粘附层(14)上涂覆抗蚀剂层(16)；(c)去除部分的抗蚀剂层(16)，以便暴露部分的粘附层并形成相应的结构化掩模(24)；(d)通过结构化掩模(24)蚀刻粘附层(14)和金刚石基底(2)，以便结构化(28)所述金刚石基底(2)；其中粘附层(14)是包含氧化物的非金属化合物。
基本信息
专利标题 ：
金刚石基底的微米和纳米结构化
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556212A
申请号 ：
CN202080065871.5
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-09-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M.拉德特克E.K.纽-鲁芬A.斯拉布拉布
申请人 ：
萨尔大学
申请人地址 ：
德国萨尔布吕肯
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王增强
优先权 ：
CN202080065871.5
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03F7/075 G03F7/11 G03F7/16 G03F7/40 C30B29/04 C30B33/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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