干涉缺陷检查中的样品表面偏振修改
实质审查的生效
摘要

使用从干涉仪中的干涉通道和偏振修改通道采集的数据来检测缺陷。干涉物镜将偏振照明束分成参考照明和样品束,该参考照明由参考表面反射而不修改偏振,并且该样品束由样品表面反射而可能修改偏振。来自具有无偏振变化的该样品束的光与该参考照明组合并且被引导到该干涉通道,其可测量样品的反射率和/或形貌。来自具有修改的偏振的该样品束的光被引导到该偏振修改通道。在该偏振修改通道处检测到的光的强度可与该反射率和形貌数据一起使用以识别该样品的缺陷或其它特性。

基本信息
专利标题 :
干涉缺陷检查中的样品表面偏振修改
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114467021A
申请号 :
CN202080067781.X
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2020-09-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
N·P·史密斯
申请人 :
昂图创新有限公司
申请人地址 :
美国马萨诸塞州
代理机构 :
北京市汉坤律师事务所
代理人 :
王其文
优先权 :
CN202080067781.X
主分类号 :
G01N21/88
IPC分类号 :
G01N21/88  G01N21/956  G01N21/95  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/88
申请日 : 20200904
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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