用于制造过程的系统、方法和介质
公开
摘要
本文公开了一种制造系统。该制造系统包括一个或更多个站、监测平台、以及控制模块。一个或更多个站中的每个站被配置为在部件的多步骤制造过程中执行至少一个步骤。监测平台被配置为监测部件在整个多步骤制造过程中的进展。控制模块被配置为动态地调整多步骤制造过程的每个步骤的处理参数,以实现部件的期望的最终质量度量。
基本信息
专利标题 :
用于制造过程的系统、方法和介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114585981A
申请号 :
CN202080073852.7
公开(公告)日 :
2022-06-03
申请日 :
2020-11-06
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
安德鲁·桑德斯特罗姆达马斯·利莫格恩索尔·金瓦迪姆·潘斯基马修·C·普特曼
申请人 :
纳米电子成像有限公司
申请人地址 :
美国俄亥俄州
代理机构 :
北京高沃律师事务所
代理人 :
刘芳
优先权 :
CN202080073852.7
主分类号 :
G05B19/418
IPC分类号 :
G05B19/418 G05B19/19 G05B19/406 G06N20/20 G06Q10/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05B
一般的控制或调节系统;这种系统的功能单元;用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B19/00
程序控制系统
G05B19/02
电的
G05B19/418
全面工厂控制,即集中控制许多机器,例如直接或分布数字控制、柔性制造系统、集成制造系统、计算机集成制造
法律状态
2022-06-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载