激光源中的智能气体温度控制
公开
摘要
激光源包括被配置为生成第一激光束的第一激光腔室和被配置为接收第一激光束并放大第一激光束以生成第二激光束的第二激光腔室。激光源还包括第一温度致动器和第二温度致动器，第一温度致动器和第二温度致动器被配置为分别控制第一激光腔室中的气体的第一温度和第二激光腔室中的气体的第二温度。激光源还包括温度控制系统，温度控制系统被配置为从第一温度致动器和第二温度致动器接收数据并且基于接收到的数据确定与第一温度致动器和第二温度致动器相关联的阈值。该阈值被第一温度致动器和第二温度致动器用于控制第一温度和第二温度。
基本信息
专利标题 ：
激光源中的智能气体温度控制
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114616522A
申请号 ：
CN202080074791.6
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-10-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·米纳卡伊斯
申请人 ：
西默有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080074791.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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