二氧化硅研磨抛光剂的制备方法
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摘要

一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法,包括了磨料晶种的制备步骤、高纯饱和硅溶胶液的制备步骤、沉积有疏松二氧化硅结晶颗粒的磨料晶核的制备步骤、以及包裹有硅溶胶层的磨料晶核混合乳剂的制备步骤。通过这些步骤,可以制得棱角钝化、表面具有疏松二氧化硅结晶颗粒的高硬度磨料晶核且磨料晶核上包裹有硅溶胶层的二氧化硅研磨抛光剂。本发明通过选择不同规格种类的磨料晶种,决定研磨抛光剂的切削能力;还可通过调节高纯饱和硅溶胶液中的二氧化硅质量百分比浓度和控制其沉积结晶条件及时间获得不同切削能力的二氧化硅结晶颗粒;且可通过控制二氧化硅结晶颗粒再次水化的条件和时间,得到包裹在磨料晶核外部作为润滑和填充物质的不同厚度的硅溶胶层。

基本信息
专利标题 :
二氧化硅研磨抛光剂的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113683962A
申请号 :
CN202111010321.6
公开(公告)日 :
2021-11-23
申请日 :
2021-08-31
授权号 :
CN113683962B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
马惠琪
申请人 :
马惠琪
申请人地址 :
上海市虹口区赤峰路305号810室
代理机构 :
上海老虎专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
任昉
优先权 :
CN202111010321.6
主分类号 :
C09G1/02
IPC分类号 :
C09G1/02  C09K3/14  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C09
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物;滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-07 :
授权
2021-12-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20210831
2021-11-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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