面发射激光器的测定方法、制造方法及测定装置、记录介质
公开
摘要
本发明提供面发射激光器的测定方法、制造方法及测定装置、记录介质，能够测定出面发射激光器的光的正确的光谱。面发射激光器的测定方法具有：使面发射激光器发光的步骤；以及使光学系统的光轴分别与所述面发射激光器的多个位置一致来分别对所述多个位置处的光谱进行测定的步骤。
基本信息
专利标题 ：
面发射激光器的测定方法、制造方法及测定装置、记录介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114300947A
申请号 ：
CN202111015048.6
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-08-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
久保田良辅
申请人 ：
住友电气工业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京聿宏知识产权代理有限公司
代理人 ：
霍玉娟
优先权 ：
CN202111015048.6
主分类号 ：
H01S5/42
IPC分类号 ：
H01S5/42 G01M11/00
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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