具有平面度误差补偿的微机电镜器件
实质审查的生效
摘要
本公开的各实施例涉及具有平面度误差补偿的微机电镜器件。微机电镜器件包括半导体材料的支撑框架和半导体材料板。板被连接到支撑框架，以能够围绕至少一个旋转轴线被定向。反射层被布置在板的第一区域上。压电致动结构在板的、相邻于反射层的第二区域上延伸。压电致动结构被配置为施加力来诸如修改板的曲率。
基本信息
专利标题 ：
具有平面度误差补偿的微机电镜器件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326094A
申请号 ：
CN202111151326.0
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
N·博尼R·卡尔米纳蒂M·默利
申请人 ：
意法半导体股份有限公司
申请人地址 ：
意大利阿格拉布里安扎
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
董莘
优先权 ：
CN202111151326.0
主分类号 ：
G02B26/08
IPC分类号 ：
G02B26/08 G02B26/10 G03B21/00 G03B21/28 B81B7/02 B81B5/00 B81B3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B26/00
利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置，例如，开关、选通或调制
G02B26/08
控制光的方向
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 26/08
申请日 : 20210929
申请日 : 20210929
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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