位移传感器和轮廓测量设备
公开
摘要
基于即使工件位移也抑制由光接收部检测的条纹的周期的变化的问题，本发明提供一种位移传感器10包括：照射部20，其用光照射在预定位移方向上可位移的工件W；光接收部30，其接收反射光，所述反射光是在由照射部照射的光在工件W上反射时生成的；以及条纹生成部40，其包括生成结构，所述生成结构用于当光接收部接收来自工件的反射光时在光接收部30的光接收表面32上生成条纹，其中，条纹生成部40和光接收部30布置成使得条纹生成部和光接收部平行于位移方向，或者平行于位移方向的虚像。
基本信息
专利标题 ：
位移传感器和轮廓测量设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114543698A
申请号 ：
CN202111360040.3
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
木村彰秀
申请人 ：
株式会社三丰
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
贺紫秋
优先权 ：
CN202111360040.3
主分类号 ：
G01B11/24
IPC分类号 ：
G01B11/24 G01B11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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