一种通过还原沉钒脱硅制备低硅多钒酸铵的方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及除硅和钒化合物制备领域，具体涉及一种通过还原沉钒脱硅制备低硅多钒酸铵的方法。该方法包括：提供含钒溶液；向所述含钒溶液中加酸，调节pH值至5‑6，加入还原剂进行还原反应，得到还原后的钒溶液；将所述还原后的钒溶液的pH值调节至2‑3，加入铵盐进行反应，待反应结束后，过滤得到沉钒滤饼，将滤饼用去离子水打浆洗涤，然后进行干燥。按照本发明所述的通过还原沉钒脱硅制备低硅多钒酸铵的方法，可以实现对含钒溶液进行深度脱硅，制备的APV中硅含量降至20ppm以下，除硅效果优异。
基本信息
专利标题 ：
一种通过还原沉钒脱硅制备低硅多钒酸铵的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114314660A
申请号 ：
CN202111546679.0
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘波彭穗辛亚男姚洁
申请人 ：
成都先进金属材料产业技术研究院股份有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市青白江区城厢镇香岛大道1509号（铁路港大厦A区13楼A1301-1311、1319室）
代理机构 ：
北京润平知识产权代理有限公司
代理人 ：
严政
优先权 ：
CN202111546679.0
主分类号 ：
C01G31/00
IPC分类号 ：
C01G31/00 C01G31/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01G
含有不包含在C01D或C01F小类中之金属的化合物
C01G31/00
钒的化合物
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01G 31/00
申请日 : 20211216
申请日 : 20211216
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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