一种光谱发射率测量装置及表面温度测量方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开的一种光谱发射率测量装置及表面温度测量方法,属于辐射测温技术、发射率测量技术领域。本发明的装置主要由镜头和光谱仪或光谱辐射计组成,镜头与光谱仪或光谱辐射计可以直接连接,也可以使用光纤连接。无需其他任何额外的温度测量设备或传感器,仅使用发射率测量所需的、带有镜头的、光谱范围覆盖短波的光谱仪或光谱辐射计作为测量设备,使用3个及以上光谱辐射能量信息,根据普朗克黑体辐射定律建立目标温度与光谱辐射能量的关系,拟合温度T与光谱辐射能量Lλ、波长λ的关系式,即能够准确测算出目标的表面温度,从而获得目标的光谱发射率。本发明不仅能够简化测温设备,还能够提高目标光谱发射率的测量精度。

基本信息
专利标题 :
一种光谱发射率测量装置及表面温度测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114509165A
申请号 :
CN202111563838.8
公开(公告)日 :
2022-05-17
申请日 :
2021-12-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张学聪温悦蔡静张岚李丹高一凡
申请人 :
中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
申请人地址 :
北京市海淀区温泉镇环山村
代理机构 :
北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张利萍
优先权 :
CN202111563838.8
主分类号 :
G01J5/00
IPC分类号 :
G01J5/00  G01J3/28  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J5/00
辐射高温测定法
法律状态
2022-06-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 5/00
申请日 : 20211220
2022-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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