铜箔粗化液、单面粗化铜箔及其制备方法、集流体及电池
实质审查的生效
摘要
本发明涉及电池技术领域，具体而言，涉及一种铜箔粗化液、单面粗化铜箔及其制备方法、集流体及电池。铜箔粗化液，包括以下浓度的各组分：锌离子源50g/L～120g/L，氯离子源50g/L～120g/L，导电盐75g/L～120g/L，及pH调节剂，pH调节剂维持铜箔粗化液的pH值在4.5～5。在铜箔粗化液作为溶液的基础上，通过连续的正扫和负扫及即可实现Zn2+不断在铜箔表面的沉积、扩散和溶解，实现了铜箔表面粗糙度的调制，提高了铜箔与树脂基材的结合力。
基本信息
专利标题 ：
铜箔粗化液、单面粗化铜箔及其制备方法、集流体及电池
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114438579A
申请号 ：
CN202111583797.9
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2021-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张德平汪洋陈航
申请人 ：
中国电子产品可靠性与环境试验研究所（（工业和信息化部电子第五研究所）（中国赛宝实验室））
申请人地址 ：
广东省广州市增城区朱村街朱村大道西78号
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
张灵莉
优先权 ：
CN202111583797.9
主分类号 ：
C25F3/02
IPC分类号 ：
C25F3/02 H01M4/70
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/02
浸蚀
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25F 3/02
申请日 : 20211222
申请日 : 20211222
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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