一种基于均方误差的光学星上处理目标定位精度评估方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种基于均方误差的光学星上处理目标定位精度评估方法,属于遥感卫星星上处理技术领域,该方法先提取遥感卫星星上处理目标切片中心点坐标作为该目标位置坐标,提取同一颗遥感卫星同时获取的地面处理相同目标中心点坐标,确定目标切片中心点坐标与目标中心点坐标的纵向误差和横向误差,再根据星上处理目标切片与同时获取的相应地面处理目标为同一目标的关系,确定纵向误差和横向误差的均根误差;之后评估第一数据集的定位精度,实现了利用同一颗遥感卫星已知目标定位精度的地面处理数据对未知定位精度的星上处理目标切片数据,基于相同目标点误差的定位精度评估,用于遥感卫星星上处理切片数据的目标定位精度快速自动评估。
基本信息
专利标题 :
一种基于均方误差的光学星上处理目标定位精度评估方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114383632A
申请号 :
CN202111593209.X
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴志刚刘锋孙鹏博周鑫胡晓宁宛雄丰
申请人 :
北京市遥感信息研究所
申请人地址 :
北京市海淀区小营东路2号院
代理机构 :
中国航空专利中心
代理人 :
王迪
优先权 :
CN202111593209.X
主分类号 :
G01C25/00
IPC分类号 :
G01C25/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01C
测量距离、水准或者方位;勘测;导航;陀螺仪;摄影测量学或视频测量学
G01C25/00
有关本小类其他各组中的仪器或装置的制造、校准、清洁或修理
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01C 25/00
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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