一种半导体晶圆DIE尺寸的测量方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种一种半导体晶圆DIE尺寸的测量方法,方法的步骤中含有:S1:对晶圆构建坐标系,获取晶圆的圆心坐标,获取基测DIE的尺寸及邻近DIE和基测DIE之间的间隔尺寸;其中,基测DIE为晶圆圆心附近的某个实际DIE;邻近DIE为基测DIE相邻斜角方向的实际DIE;S2:以基测DIE的尺寸以及邻近DIE和基测DIE之间的间隔尺寸对应为预排列DIE的尺寸和预排列DIE之间的间隔尺寸,并根据晶圆的尺寸、晶圆的圆心坐标、基测DIE的尺寸以及邻近DIE和基测DIE之间的间隔尺寸在晶圆上预排列出预排列DIE的分布,得DIE预排列图;DIE预排列图包括一行水平方向的预排列DIE和一行垂直方向的预排列DIE,并获得每个预排列DIE的位置坐标。它能够很好地测量DIE的大小,并且操作简单,测量结果误差较小。

基本信息
专利标题 :
一种半导体晶圆DIE尺寸的测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114496826A
申请号 :
CN202111594947.6
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘庄
申请人 :
江苏维普光电科技有限公司
申请人地址 :
江苏省常州市新北区华山路18号
代理机构 :
常州兴瑞专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
肖兴坤
优先权 :
CN202111594947.6
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/66
申请日 : 20211224
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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