底部抗反射涂层组合物及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明适用于光刻胶技术领域，提供了一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法，其包括以下质量百分比的原料：含芳基的甘脲类低聚物溶液5‑15％、主体树脂0.5‑15％、热敏酸0.1‑1％，余量为有机溶剂。本发明通过在底部抗反射涂层组合物中添加了可进行交联且芳基比例可调节的甘脲类低聚物，从而快速的调整底部抗反射涂层的n/k值，大大降低底部抗反射涂层在n/k值方面的调整难度，减少了光刻胶底部界面出现反射和诸如驻波等问题，提高光刻工艺中线宽解析度。
基本信息
专利标题 ：
底部抗反射涂层组合物及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114384761A
申请号 ：
CN202111625462.9
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
顾大公陈鹏夏力马潇毛智彪许从应
申请人 ：
宁波南大光电材料有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号
代理机构 ：
深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张红伟
优先权 ：
CN202111625462.9
主分类号 ：
G03F7/09
IPC分类号 ：
G03F7/09
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/09
申请日 : 20211228
申请日 : 20211228
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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