一种组合型反射膜及其制备方法
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摘要
本发明公开了一种组合型反射膜，包括底部膜层、中部膜层和顶部膜层，所述中部膜层由不同光学厚度的高折射率材料和低折射率材料交替形成，其中所述高折射率材料为HfO2和Ta2O5或HfO2和ZrO2，所述低折射率材料为SiO2，所述顶部膜层由不同光学厚度的Ta2O5和SiO2交替沉积形成，或所述顶部膜层由不同光学厚度的ZrO2和SiO2交替沉积形成。还公开了该反射膜的制备方法，该反射膜具有高紫外光反射率、大带宽、高耐久性，且在酸碱试验、湿热老化试验、紫外光暴露试验后其反射率和宽带基本不变，具有高耐久性，为其长期服役提供保障。
基本信息
专利标题 ：
一种组合型反射膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113151783A
申请号 ：
CN202110229161.8
公开（公告）日 ：
2021-07-23
申请日 ：
2021-03-02
授权号 ：
CN113151783B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
覃家祥陶友季王受和祁黎王俊吕天一
申请人 ：
中国电器科学研究院股份有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市海珠区新港西路204号第一栋
代理机构 ：
广州知友专利商标代理有限公司
代理人 ：
宣国华
优先权 ：
CN202110229161.8
主分类号 ：
C23C14/08
IPC分类号 ：
C23C14/08 C23C14/10 C23C14/30 G02B5/08
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/08
氧化物
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-09-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/08
申请日 : 20210302
申请日 : 20210302
2021-07-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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