一种反射率测量装置
授权
摘要

本申请适用于光电测量技术领域,提供了一种反射率测量装置,包括用于固定样品的位置与姿态的样品架、与样品架相对设置的积分球、用于承载样品架和积分球的第一导轨,以及分别设置于第一导轨的两侧的光源和亮度仪;积分球的与光源相对的一侧开设有采光孔,积分球的与亮度仪相对的一侧开设有探测孔,光源发出的光能够穿过采光孔照射样品,且亮度仪能够通过探测孔探测样品。通过设置第一导轨,能够方便地移动样品架和积分球,控制积分球和样品架之间的距离,反射率测量装置可以兼具镜面反射测量和漫反射测量的功能;通过采光孔和探测孔在漫反射测量状态下与样品架的位置关系,可以方便地获知测试漫反射率时光源和亮度仪的正确方位。

基本信息
专利标题 :
一种反射率测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021209545.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-24
授权号 :
CN213022809U
授权日 :
2021-04-20
发明人 :
钟铁涛孙琴霍丙忠李祖华
申请人 :
深圳市三利谱光电科技股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明新区公明办事处楼村社区第二工业区同富一路5号第1-9栋
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
叶思
优先权 :
CN202021209545.0
主分类号 :
G01N21/01
IPC分类号 :
G01N21/01  G01N21/55  G01N21/47  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2021-04-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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