本发明提供了一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法，该底部抗反射涂层组合物包括以下质量百分比的原料：含芳基的甘脲类低聚物溶液5‑15％、主体树脂0.5‑15％、交联剂0.1‑5％、热敏酸0.1‑1％，余量为有机溶剂；其中，所述主体树脂包括吸光官能团、交联官能团和辅助官能团。该底部抗反射涂层组合物，采用含特殊基团的甘脲类低聚物溶液的作为交联剂。通过改变含芳基的甘脲类低聚物中芳基比例，方便的调整n/k值，大大降低BARC产品在n/k值方面的调整难度，减少光刻胶底部界面出现反射和诸如驻波等问题，提高光刻工艺中线宽解析度，同时可方便的调整BARC产品的刻蚀速率，降低了产品的开发难度，优化其在刻蚀工艺时的性能，具有较大的应用前景。