底部抗反射层及其制备方法
公开
摘要
本发明适用于光刻胶技术领域，提供了一种底部抗反射层及其制备方法，该方法以下步骤：将第一吸光薄膜溶液旋涂在硅片上，以形成底部抗反射层的第一吸光薄膜层；在所述第一吸光薄膜层上旋涂抗反射薄膜溶液，以形成底部抗反射层的抗反射薄膜层；在所述抗反射薄膜层上旋涂第二吸光薄膜溶液，以形成底部抗反射层的第二吸光薄膜层。本发明通过上述方法在所述第一吸光薄膜层与所述第二吸光薄膜层之间增加了抗反射薄膜层，进一步提高了光刻胶底部界面的抗反射能力，从而使得底部抗反射层能较好的吸收多余的、到达光刻胶薄膜底部的曝光光线，避免或减少反射，进而达到消除驻波、提高线条形貌的目的。
基本信息
专利标题 ：
底部抗反射层及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114296318A
申请号 ：
CN202111631925.2
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
顾大公陈鹏夏力马潇毛智彪许从应
申请人 ：
宁波南大光电材料有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号
代理机构 ：
深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
贾振勇
优先权 ：
CN202111631925.2
主分类号 ：
G03F7/09
IPC分类号 ：
G03F7/09
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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