一种基于不同偏好光谱模型的拟合预测方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及近红外光谱分析技术，其公开了一种基于不同偏好光谱模型的拟合预测方法，解决传统便携式近红外光谱分析方法随机性大，预测效果不稳定，准确率低的问题。该方法包括以下步骤：S1、导入原始光谱样本数据，并按照不同偏好对光谱样本数据进行划分；S2、基于不同偏好划分的光谱样本数据训练对应偏好光谱模型，获得对应偏好的稳定光谱模型；S3、利用对应偏好的稳定光谱模型分别对待预测光谱数据进行预测，获得各自对应的预测结果；S4、对各个偏好的稳定光谱模型的预测结果进行拟合，获得最终的预测结果。
基本信息
专利标题 ：
一种基于不同偏好光谱模型的拟合预测方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114282446A
申请号 ：
CN202111639832.4
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘浩贾利红张国宏王毅李光尧
申请人 ：
四川启睿克科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市中国（四川）自由贸易试验区成都高新区天府四街199号1栋33层
代理机构 ：
成都虹桥专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴中伟
优先权 ：
CN202111639832.4
主分类号 ：
G06F30/27
IPC分类号 ：
G06F30/27 G06F17/17 G06K9/62 G01N21/359
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/27
使用机器学习，例如人工智能，神经网络，支持向量机或训练模型
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/27
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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