一种晶圆涂胶的工艺优化方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种晶圆涂胶的工艺优化方法，该方法首先确定涂胶工艺的治具、胶水类型和胶水属性；然后确定涂胶前对加工件的清洗工艺；确定加工的工艺参数，所述加工的工艺范围包括涂胶的刮刀压力、刮涂速度、刮刀工作模式、钢网规格的选择；确定涂胶后的烘烤工艺曲线。最后通过验证指标对优化后的工艺参数进行验证，优化后的背面涂胶工艺涂胶晶圆时，精度高，能够满足批量生产。
基本信息
专利标题 ：
一种晶圆涂胶的工艺优化方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114334736A
申请号 ：
CN202111648783.0
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李兴丽马勉之师志玉冯后清
申请人 ：
华天科技（西安）有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市经济技术开发区凤城五路105号
代理机构 ：
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 ：
安彦彦
优先权 ：
CN202111648783.0
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/683
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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