本申请涉及光伏技术领域，公开了一种激光刻划设备、薄膜光伏芯片的刻划方法和发电建筑板材。本申请的激光刻划设备输出的目标光束的光斑为矩形光斑，并且该目标光束的光斑在长度和宽度方向上的光强分布为平顶分布，也即目标光束为二维平顶光束。相对于现有技术中使用的高斯光束，目标光束的光斑具有光强分布均匀的特点，这使得利用目标光束进行刻划所产生的划线，在宽度方向上透光性是均匀的，不容易现有技术中存在的光斑中心能量密度高，烧蚀量大，边缘能量密度低，烧蚀不充分，所导致的划线边缘透光程度不均匀的问题。本申请的发电建筑板材所采用的薄膜光伏芯片是由上述的激光刻划设备或者刻划方法制作得来的，能够为用户提供较佳的使用体验。