一种芯片加工用晶片减薄机
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摘要

本实用新型公开了一种芯片加工用晶片减薄机,包括底座、固定在底座上用于挡水的挡水框以及固定在底座上用于对工件进行研磨的研磨件,还包括设置在底座上的喷头以及用于支撑喷头的支撑板,支撑板经与齿条连接的直齿轮滑动设置在底座上,齿条旋转设置在底座上且齿条与支撑板固定配合,直齿轮旋转设置在底座内且直齿轮与其齿条相啮合,底座内固定有主电机且其输出轴与直齿轮固定配合,旋转主电机输出轴以使其驱动直齿轮带动齿条转动,达到齿条驱动支撑板带动喷头在底座上转动,底座上固定有储存箱,储存箱的内壁上固定有抽水泵且其与喷头通过软道连接,抽水泵可传输储存箱内水通过喷头对工件进行清洗,可以对工件进行清洗。

基本信息
专利标题 :
一种芯片加工用晶片减薄机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202120778331.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-04-16
授权号 :
CN216327524U
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
胡天武
申请人 :
绍兴宇力半导体有限公司
申请人地址 :
浙江省绍兴市越城区巨星大厦511室
代理机构 :
绍兴融创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张驰骋
优先权 :
CN202120778331.3
主分类号 :
B24B37/00
IPC分类号 :
B24B37/00  B24B37/11  B24B37/27  B24B37/34  B24B55/06  H01L21/304  H01L21/67  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置;附件
法律状态
2022-04-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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