一种刻蚀槽、硅片处理系统及太阳能电池制造系统
授权
摘要
本实用新型公开一种刻蚀槽、硅片处理系统及太阳能电池制造系统,涉及光伏技术领域,以提高臭氧水溶液刻蚀槽的刻蚀效果。该刻蚀槽用于容纳刻蚀剂并刻蚀硅片;刻蚀槽包括主槽、辅槽和链式传输装置。主槽具有盖合主槽的密封盖;主槽的侧壁开设有硅片进口和硅片出口;链式传输装置设在主槽内硅片进口和硅片出口之间;辅槽围设在主槽外,辅槽与主槽的侧壁之间具有间隙,辅槽与主槽通过给液装置连通。本实用新型提供的刻蚀槽、硅片处理系统及太阳能电池制造系统用于制造太阳能电池。
基本信息
专利标题 :
一种刻蚀槽、硅片处理系统及太阳能电池制造系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121575388.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-07-12
授权号 :
CN216488099U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
朱广东李华刘继宇
申请人 :
泰州隆基乐叶光伏科技有限公司
申请人地址 :
江苏省泰州市海陵区兴泰南路268号
代理机构 :
北京知迪知识产权代理有限公司
代理人 :
付珍
优先权 :
CN202121575388.X
主分类号 :
H01L31/18
IPC分类号 :
H01L31/18 H01L21/67
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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