一种具有防污染结构的荧光成像装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种具有防污染结构的荧光成像装置,包括成像主体、调节组件和成像组件,调节组件,其设置在所述成像主体的内部上方,成像组件,其安装在所述调节组件的中部。该具有防污染结构的荧光成像装置,与现有的装置相比,通过铰链,可以方便将箱门进行开关,从而可以在工作成像时,对内部环境进行密封隔离,从而避免外界的环境对成像产生影响,通过箱门表面的可视口,可以对内部的工作状态进行观察,通过活物箱,可以在对活物进行成像时进行放置,通过滑槽,可以在对其他物体进行成像时,方便将活物箱取下,从而使其他物品放置在托盘上,同时能够对活物箱进行清理,通过消杀灯,可以对装置使用后对内部进行杀菌。

基本信息
专利标题 :
一种具有防污染结构的荧光成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121786866.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-08-02
授权号 :
CN216309792U
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
陈东张一赵建王伟
申请人 :
新光维医疗科技(苏州)股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区中田巷8号
代理机构 :
苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
徐永雷
优先权 :
CN202121786866.1
主分类号 :
G01N21/64
IPC分类号 :
G01N21/64  G01N21/01  G01N21/15  A61B5/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光;磷光
法律状态
2022-04-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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