一种立式双门真空蒸发镀膜机
授权
摘要
本实用新型公开了一种立式双门真空蒸发镀膜机，包括真空蒸发镀膜机主体，所述真空蒸发镀膜机主体上设有两个前侧设置为开口的蒸发镀膜腔室，且两个蒸发镀膜腔室上下设置，每个蒸发镀膜腔室的开口位置均密封配合有一个电控解锁的真空蒸发镀膜机柜门。本实用新型通过电控箱，可以控制相应的真空蒸发镀膜机柜门在真空蒸发镀膜机主体上进行解锁，然后工作人员对相应的真空蒸发镀膜机柜门进行开启，真空蒸发镀膜机柜门所对应的照明灯可以自动开启，便于用户在光线不好的环境下对蒸发镀膜腔室内部镀膜完成的产品进行拿取，另外真空蒸发镀膜机柜门在关闭时还具有较好的缓冲效果，进而达到对真空蒸发镀膜机柜门进行缓冲防护的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种立式双门真空蒸发镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122233864.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-15
授权号 ：
CN216337920U
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
张小容
申请人 ：
张小容
申请人地址 ：
广东省广州市越秀区较场东路19号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122233864.6
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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