一种用于沉浸式光刻机的防微振基座
授权
摘要
本实用新型提供了一种用于沉浸式光刻机的防微振基座，包括主体单元基座、晶圆处理单元基座、总成单元基座和组件单元基座。本实用新型能够满足沉浸式光刻机的防微振等级要求，基座通过不同构造的多个基座组合而成，通用性好，实用性强，且基座结构简单、安装方便，隔微振效果好，防微振等级可达VC‑D级。
基本信息
专利标题 ：
一种用于沉浸式光刻机的防微振基座
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122491338.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-16
授权号 ：
CN216485979U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
赵小江李斌刘国东
申请人 ：
大连地拓电子工程技术有限公司
申请人地址 ：
辽宁省大连市高新技术产业园区广贤路133号赛伯乐大厦4层A434室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122491338.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 F16F15/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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