芯片阵列基板清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种芯片阵列基板清洗装置，包括：清洗槽，用于盛装清洗液；芯片阵列基板保持构件，用于保持芯片阵列基板且使芯片阵列基板的待清洗表面朝向地面；与芯片阵列基板保持构件相连接的旋转构件，用于驱动芯片阵列基板保持构件水平旋转；与旋转构件相连接的运动构件；以及控制构件，清洗时，控制构件控制运动构件带动旋转构件和芯片阵列基板保持构件一起运动，使芯片阵列基板保持构件带动芯片阵列基板进入清洗液内，并控制旋转构件旋转，带动芯片阵列基板在清洗液内旋转，清洗后，控制构件控制运动构件带动旋转构件和芯片阵列基板保持构件一起运动，使芯片阵列基板离开清洗液。本实用新型能够更安全、更有效的清洗芯片阵列基板。
基本信息
专利标题 ：
芯片阵列基板清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122586375.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-26
授权号 ：
CN216631827U
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
姜建兴刘斌芝
申请人 ：
深圳市思坦科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区工业园路1号1栋凯豪达大厦十三层1309
代理机构 ：
深圳中细软知识产权代理有限公司
代理人 ：
田丽丽
优先权 ：
CN202122586375.9
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10 B08B7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2022-05-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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