一种镀膜机的多靶位真空室
授权
摘要
本实用新型公开了一种镀膜机的多靶位真空室，属于真空镀膜机技术领域，包括真空罩和底座，所述真空罩内安装有多个磁控溅射靶，所述底座上安装有抽真空管，所述底座上安装有旋转座驱动的转盘，所述转盘上圆周分布有若干个基片台架，通过驱动所述转盘旋转使不同的所述基片台架移动到所述磁控溅射靶的下方，所述基片台架包括由翻转电机驱动的上下翻转的基片夹持架，所述基片夹持架的侧面还安装有挡板，通过翻转所述基片夹持架可使所述挡板朝向所述磁控溅射靶。通过圆周分布在转盘上的基片台架与多个磁控溅射靶对应，提高镀膜效率，而且基片台架位置可以移动，方便将不同基片切换到不同磁控溅射靶下方，满足实际镀膜需求。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜机的多靶位真空室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122628948.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-29
授权号 ：
CN216274355U
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
应世强应佳根
申请人 ：
南京丙辰表面技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市浦口区浦口经济开发区步月路9号-130
代理机构 ：
南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张丽丽
优先权 ：
CN202122628948.X
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/35 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-04-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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