一种石墨舟卡点及石墨舟
授权
摘要
本实用新型属于石墨舟技术领域，具体公开了一种石墨舟卡点及石墨舟，该石墨舟卡点包括基座、卡点帽和连接件，卡点帽包括互相连接的卡点帽本体和过渡部，过渡部的侧壁与基座之间具有夹角α，连接件夹设于基座与过渡部之间，过渡部、连接件与基座之间形成U型凹槽，U型凹槽用于放置硅片。本实用新型通过将硅片放置在U型凹槽内，由于U型凹槽具有一定深度，增加了硅片与石墨舟卡点的接触面积，通过接触点的电流变小，解决了石墨舟卡点容易烧焦的问题。本实用新型还包括一种石墨舟，该石墨舟通过使用上述石墨舟卡点来进行硅片的镀膜工艺，解决了石墨舟卡点容易烧焦的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种石墨舟卡点及石墨舟
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122653736.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-02
授权号 ：
CN216550698U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
李永伟任良为马政周芳超孙述
申请人 ：
横店集团东磁股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省金华市东阳市横店镇工业区
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
刘国萍
优先权 ：
CN202122653736.7
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50 C23C16/458 C23C16/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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