具有电感耦合放电清洗功能的快速进样装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有电感耦合放电清洗功能的快速进样装置，包括进样室、设于进样室中的样品架，所述样品架下方设有等离子体源机构，所述等离子体源机构包括绝缘壳体、容纳于所述绝缘壳体中的电感线圈；所述绝缘壳体具有与进样室外部连通的开口，所述电感线圈的输出引线穿过所述开口并与进样室外部的射频电源连接。本实用新型通过在进样室中的样品架下方设置等离子体源机构，可实现在样品镀膜前直接对样品表面进行清洗，无需取出再清洗，样品薄膜沉积效果更佳，避免造成二次污染。此外，在进样室内增加清洗功能，由于进样室是与主真空室是隔离的，不会造成真空室污染，也不会影响样品在主真空室的正常镀膜工作。
基本信息
专利标题 ：
具有电感耦合放电清洗功能的快速进样装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122707255.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-05
授权号 ：
CN216614820U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
汪建杜寅昌李成刘风光赵巍胜
申请人 ：
北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院）
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站高新区文忠路999号
代理机构 ：
合肥天明专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪贵艳
优先权 ：
CN202122707255.X
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C14/56 C23F4/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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