靶板结构及面板镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开一种靶板结构及面板镀膜装置，该靶板结构包括靶板件、支撑件和遮挡板，靶板件为间隔设置的多个，支撑件为多个，每个支撑件均位于两个靶板件之间，遮挡板为多个，多个遮挡板沿支撑件的长度方向依次排布。遮挡板的端部设有安装台阶，遮挡板通过穿设在安装台阶上的固定件固定在支撑件上，且固定件的端部位于相邻两个遮挡板的侧壁的内侧或者固定件的端部与遮挡板的侧壁齐平设置。该靶板结构既能够保证遮挡板的稳定性，又能避免遮挡板的固定结构凸出靶板件，避免了固定结构在镀膜过程中产生堆积异物或者异物掉落的现象发生。
基本信息
专利标题 ：
靶板结构及面板镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122720933.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-08
授权号 ：
CN216663208U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
石林
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
郭玉兵
优先权 ：
CN202122720933.6
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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