一种曝光机防尘机构
授权
摘要
本实用新型提供一种曝光机防尘机构，所述曝光机防尘机构包括安装框；滤芯，所述滤芯密封活动安装在所述安装框内；凹槽，所述凹槽开设在所述安装框的底部内壁上，且所述凹槽的内壁与滤芯密封活动连接；固定杆，所述固定杆固定安装在所述滤芯的底部；安装槽，所述安装槽开设在所述凹槽的底部内壁上；卡块，所述卡块固定安装在所述固定杆的底端，且所述卡块与安装槽的内壁活动连接；滑动槽，所述滑动槽开设在所述安装槽的一侧内壁上；锁定块，所述锁定块滑动安装在所述滑动槽内，且所述锁定块与卡块活动连接。本实用新型提供的曝光机防尘机构具有操作简单，便于对滤芯进行清洁，使用方便，提高了清洁效率的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种曝光机防尘机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122753090.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-11
授权号 ：
CN216248760U
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
郑志忠李家鹏
申请人 ：
苏州兴胜科半导体材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区龙潭路123号
代理机构 ：
广州博联知识产权代理有限公司
代理人 ：
马天鹰
优先权 ：
CN202122753090.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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