自适应平参参考面的抛光吸盘
授权
摘要
本实用新型自适应平参参考面的抛光吸盘，包括装载块，装载块的中部设置有装载槽，装载槽内设置有吸盘设置块，吸盘设置块包括设置于装载槽内的设置块主体，设置块主体上端设置有吸盘承接块，吸盘承接块上设置有吸盘；装载块上对应吸盘承接块设置有调节环台，吸盘承接块对应调节环台设置有调节槽，吸盘推进至抛光垫位进行抛光垫承接，后加压，吸盘承接块以调节环台为基点自适应的进行对应抛光垫调节，使抛光垫表面均匀贴合于用作平参参考面的吸盘表面，形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。
基本信息
专利标题 ：
自适应平参参考面的抛光吸盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122764389.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-12
授权号 ：
CN216731217U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
陈良臻沈俊熙王维师孙晨光王彦君曹锦伟
申请人 ：
中环领先半导体材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市宜兴经济技术开发区东氿大道
代理机构 ：
北京鑫知翼知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张云珠
优先权 ：
CN202122764389.5
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B41/04 B24B47/22
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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