叠铝电容晶片生产用滚涂设备涂液机构
授权
摘要
本实用新型是叠铝电容晶片生产用滚涂设备涂液机构，其结构包括上下分布的2个沾液单元，感应电机通过第一传动机构驱动连接其中一个沾液单元，该沾液单元通过传动带驱动连接第二传动机构，第二传动机构驱动连接另一沾液单元。本实用新型的优点：结构设计合理，可实现1个或2个沾液单元自动将需要沾涂的液体附加到沾液轮表面上，便于外设滚轮转移液体，1个沾液单元工作可实现单个滚轮转移液体，实现单面滚涂，2个沾液单元工作则可实现双面滚涂，可有效提高生产效率，作为整套生产线的一部分，有助于实现基于钢带卷对卷连续生产的叠片固态铝电解电容器晶片的涂银和/或涂碳滚涂。
基本信息
专利标题 ：
叠铝电容晶片生产用滚涂设备涂液机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122841054.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-19
授权号 ：
CN216605811U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
王迎晖张晓峰
申请人 ：
首镭激光半导体科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市常熟市尚湖镇翁庄路9号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122841054.9
主分类号 ：
B05C1/02
IPC分类号 ：
B05C1/02 B05C11/10 H01G9/15
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C1/00
在装置中使用工件与载有液体或其他流体的构件相接触，例如多孔构件装上作涂层用的液体，将液体或其他流体涂布于工件表面
B05C1/02
对分开的各个物品涂布液体或其他流体
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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