叠铝电容晶片生产用滚涂设备烘干机构
授权
摘要
本实用新型是叠铝电容晶片生产用滚涂设备烘干机构，其结构包括2块主支撑板，2块主支撑板顶部连接顶板，2块主支撑板两侧分别连接一侧板，主支撑板和侧板内侧从上至下依次间隔设有与顶板相平行的网板、隔热板和安装板，顶板中心设换气口，网板两端上方对应的侧板上开有缺口，隔热板中心开有矩形的出风槽，出风槽两侧的安装板上装有出风口垂直向上的热风枪。本实用新型的优点：可对料带表面进行高效均匀烘干，隔热板和出风槽可避免热风直接从热风枪吹到料带表面，避免局部过热，温度传感器的设置可实现自动化调控热风枪烘干温度，提高生产稳定性，有助于实现基于钢带卷对卷连续生产的叠片固态铝电解电容器晶片的涂银和/或涂碳滚涂设备整体设计。
基本信息
专利标题 ：
叠铝电容晶片生产用滚涂设备烘干机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122841200.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-19
授权号 ：
CN216605954U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
王迎晖张晓峰
申请人 ：
首镭激光半导体科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市常熟市尚湖镇翁庄路9号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122841200.8
主分类号 ：
B05D3/04
IPC分类号 ：
B05D3/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05D
对表面涂布流体的一般工艺
B05D3/00
涂布液体或其他流体的表面的预处理；已有涂层的后处理，例如要用液体或其他流体作后续涂布的已有的涂层的中间处理
B05D3/04
暴露在气体中
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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