晶片涂胶设备
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种晶片涂胶设备,两个载物台机构、涂胶机构、涂胶机构行走装置和自控计算机及显微镜,其特征是:自控计算机按照设定的程序控制载物台机构和涂胶机构行走装置,载物台机构与涂胶机构行走装置相互动作配合,协调涂胶机构依次对晶片(22)涂胶。该设备,装置结构简单,且调整简便,借助于显微镜,可实现精确定位。装置体积小,相较专用晶片粘接设备而言,装置成本极低。整个加工过程可实现完全自动化,大大提高了工作效率。可应用于不同规格和尺寸的晶片的涂胶,适用范围较为广泛。
基本信息
专利标题 :
晶片涂胶设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720040308.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-07-20
授权号 :
CN201064762Y
授权日 :
2008-05-28
发明人 :
岳东杨继全葛辉
申请人 :
南京师范大学
申请人地址 :
210097江苏省南京市宁海路122号
代理机构 :
南京知识律师事务所
代理人 :
程化铭
优先权 :
CN200720040308.4
主分类号 :
B05C5/00
IPC分类号 :
B05C5/00 B05C1/02 B05D7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B05
一般喷射或雾化;对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C5/00
将液体或其他流体物质喷射,灌注或让其流到工件表面的装置
法律状态
2010-10-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101006307829
IPC(主分类) : B05C 5/00
专利号 : ZL2007200403084
申请日 : 20070720
授权公告日 : 20080528
号牌文件序号 : 101006307829
IPC(主分类) : B05C 5/00
专利号 : ZL2007200403084
申请日 : 20070720
授权公告日 : 20080528
2008-05-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN201064762Y.PDF
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