本实用新型提供了一种光刻机的载片台平坦度的检测系统及光刻机。光刻机的载片台平坦度的检测系统，包括：曝光光源、检测掩模版、载片台、检测设备，其中，所述检测掩模版上分布有多个形状相同的掩模图形。然后，在特定曝光条件下进行曝光，即，使曝光光源的曝光焦距设置为光刻机的规定焦距范围的上限，从而在载片台的任何位置处发生平坦度变化时，则会出现失焦的现象，使得在待测基板上的相应位置处形成的检测图形有明显的形变，从而通过检测设备可快速判断出载片台的平坦度变化。本实用新型提供的检测系统可以方便快捷地实现载片台的平坦度检测，便于及早发现平坦度异常，减少产品质量影响和良率损失。