一种高精度光刻机内载片结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种高精度光刻机内载片结构，其结构包括框架、护缘、载片台、吸孔、撑架、真空接管、底筒、电机、密封机构和量角机构，本实用新型具有以下有益效果，通过在底筒上设置了密封机构，再通过筒体与真空接管连接后，使橡胶环和橡胶垫圈对底筒进行贴合转动，并使嵌槽与底筒转动接触，使筒体内部密封，达到提高承载台内部密封性，减少真空接管安装浪费和节省安装空间的效果，通过在底撑内设置了测角机构，再通过角度传感器与底筒连接后，使角度传感器与底筒同步转动后通过端口将数据传输至处理器内，使处理器借助端口与外部单元交流，达到有效的将硅片转动数据与匀胶单元进行交流，提高操作精确性的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种高精度光刻机内载片结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021259790.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-01
授权号 ：
CN212083892U
授权日 ：
2020-12-04
发明人 ：
李俊毅姚恒裕陈舜钦林雅芳李雅瑜
申请人 ：
福建安芯半导体科技有限公司
申请人地址 ：
福建省泉州市南安市石井镇院前村2号
代理机构 ：
泉州市兴博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
易敏
优先权 ：
CN202021259790.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-12-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
