本发明属于光刻机技术领域，特别涉及一种步进式高精度光刻机，包括有工作台、激光器、光束矫正器、能量控制器、能量探测器、光束形状控制等；激光器、光束矫正器、能量控制器、控制台设于封闭框架外；封闭框架底部设有减振器；能量控制器、光束形状控制、遮光器、能量探测器、能量控制器位于同一水平线上，且从左至右依次设置等；本发明通过温控装置及时调整物镜、掩模版、掩模台之间之间的温度差；通过调谐器对封闭框架内的信号做出变频；通过调整器对物镜下对抱死或者松开，使得物镜能够做出调整，以此防止在激光束照射下，物镜发生膨胀或者收缩的情况，从而使得蚀刻的图案能够达到精准，如此，达到种能够快速变频、能够刻蚀精准的效果。