一种传片装置及光刻机
授权
摘要
本实用新型公开了一种传片装置及光刻机，其中，传片装置包括：定位顶板、定位底板、至少一对滑动手臂和至少一个装载手臂；滑动手臂可沿设定轨道往复运动；滑动手臂用于输送硅片至定位底板上；定位顶板位于定位底板的上方，使得硅片位于定位底板和定位顶板之间；定位顶板设置有传感器支架；传感器支架设置有多个接收传感器；定位底板上设置有与接收传感器一一对应设置的发射传感器；发射传感器和接收传感器用于对硅片进行定位；其中，每对滑动手臂均沿第一方向延伸；在垂直于第一方向上，每对滑动手臂之间的间距范围为66㎜～70㎜。本实用新型提供了一种传片装置及光刻机，以实现能够对4寸硅片传输的传片装置。
基本信息
专利标题 ：
一种传片装置及光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021336471.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-09
授权号 ：
CN212647260U
授权日 ：
2021-03-02
发明人 ：
李华王晓军
申请人 ：
上海探跃半导体设备有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区宣桥镇宣秋路210号E幢1楼北侧101室
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
孟金喆
优先权 ：
CN202021336471.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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