一种曝光机玻璃基板表面温度控制单元
授权
摘要
本实用新型公开了一种曝光机玻璃基板表面温度控制单元,包括主箱体和框体,所述主箱体外部的两侧分别焊接固定有框体,所述主箱体内部的顶端横向固定安装有壳体,所述主箱体外部的顶端横向固定连接有空心箱,所述主箱体内部后端的中心处固定连接有温度传感器,所述主箱体内部后端的两侧之间等间安装有多组固定卡块。该曝光机玻璃基板表面温度控制单元通过在主箱体外部的两侧分别焊接固定有框体,在保持主箱体内部温度时,伺服电机启动,以框体两端纵向槽中旋转的对向螺杆驱使套块朝开口中心处滑行,即移动套块一侧之间设置夹板,闭合密封垫,配合拉伸的折叠板封住主箱体两侧的槽口,解决了设备两侧降温较快的问题。
基本信息
专利标题 :
一种曝光机玻璃基板表面温度控制单元
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123110846.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-13
授权号 :
CN216351775U
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
韩小立
申请人 :
江苏特纳马智能制造有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市相城经济技术开发区漕湖街道春兴路9号争丰产业园3号厂房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202123110846.5
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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