提升曝光质量的晒版机
授权
摘要

本申请公开了提升曝光质量的晒版机,涉及印版曝光成像设备技术领域,改善现有的晒版机灯条需要手动调节,在曝光过程中灯条不能移动,光线照射点不够均匀的问题,包括机体、盖板、曝光室、透光板、支撑板、支撑座、灯条、第一反光板和第二反光板,所述曝光室的两内侧壁均转动安装有螺杆,两个所述螺杆相互靠近的一端共同连接有驱动机构,所述螺杆的表面螺纹连接有螺套,所述螺套的顶部固定连接有滑块,所述滑块的顶部与支撑座固定连接。本申请通过支撑座、驱动机构、螺杆、螺套和滑块的设置,在曝光过程中,可使用驱动机构带动两个灯条不断进行移动,使光线照射均匀,可提高曝光质量。

基本信息
专利标题 :
提升曝光质量的晒版机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123255659.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-22
授权号 :
CN216449893U
授权日 :
2022-05-06
发明人 :
谢丽姝
申请人 :
常熟市华顺印刷有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市常熟市梅李镇梅南路218号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202123255659.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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