一种带有改进型曝光装置的晒版机
专利权的终止
摘要

本实用新型提供了一种带有改进型曝光装置的晒版机,属于一种晒版机,其包括中空设置且顶部开口的机箱、铰接于机箱顶面的翻盖、设置于机箱顶面的透光玻璃,以及设置于机箱内的曝光装置,曝光装置包括开设于机箱内底面的第一滑槽和第二滑槽、若干滑移连接于第一滑槽内的第一滑块、若干滑移连接于第二滑槽内的第二滑块、与第一滑块一体连接的第一夹具、与第二滑块一体连接的第二夹具,以及若干碘镓灯,第一夹具和第二夹具分别固定碘镓灯的两端。解决了现有技术中的碘镓灯的数量无法改变,使得曝光强度一定,导致其无法根据不同材质的PS版或者晒制不同大小图案的需求,调整不同的曝光强度和曝光时间,适用性差的问题。

基本信息
专利标题 :
一种带有改进型曝光装置的晒版机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920605315.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-26
授权号 :
CN209707909U
授权日 :
2019-11-29
发明人 :
罗勇伟
申请人 :
深圳市伟升创展印刷有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区布吉街道白鸽笼华美工业区厂房5栋1楼南边
代理机构 :
深圳市宾亚知识产权代理有限公司
代理人 :
黄磊
优先权 :
CN201920605315.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190426
授权公告日 : 20191129
终止日期 : 20210426
2019-11-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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